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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發(fā)成氣態(tài)鋁。氣態(tài)鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經(jīng)冷卻還原即形成一層連續(xù)而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發(fā)速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。

目前應用多的鍍鋁薄膜主要有聚酯鍍鋁膜（VMPET）和CPP 鍍鋁膜（VMCPP）。薄膜表面鍍鋁的作用是遮光、防紫外線照射，既延長了內容物的保質期，又提高了薄膜的亮度，從一定程度上代替了鋁箔，也具有價廉、美觀及較好的阻隔性能，因此，鍍鋁膜在復合包裝中的應用十分廣泛，目前主要應用于餅干等干燥、膨化食品包裝以及一些醫(yī)l藥、化妝品的外包裝上。

塑料薄膜的鍍鋁工藝一般采用直鍍法，即將鋁層直接鍍在基材薄膜表面。蒸鍍時，將卷筒薄膜置放于真空室內，關閉真空室抽真空。當真空度達到一定（4×10－4mba以上）時，將蒸發(fā)舟升溫至1300℃～1400℃，然后再把純度為99．9%的鋁絲連續(xù)送至蒸發(fā)舟上。調節(jié)好放卷速度、收卷速度、送絲速度和蒸發(fā)量，開通冷卻源，使鋁絲在蒸發(fā)舟上連續(xù)地熔化、蒸發(fā)，從而在移動的薄膜表面冷卻后形成一層光亮的鋁層即為鍍鋁薄膜。

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程

真空鍍鋁膜的生產(chǎn)工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發(fā)舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉移法和直接蒸鍍法兩種。

（1） 轉移法是借助載體膜將金屬鋁層轉移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉移法是在直接蒸鍍法基礎上發(fā)展起來的新工藝，彩色鍍鋁膜廠家，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，福建彩色鍍鋁膜，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。

（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時，彩色鍍鋁膜批發(fā)，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時，需要在鍍鋁前進行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發(fā)物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對基材的適用范圍有較大的局限性。

真空鍍鋁對被鍍基材的要求：

（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，即基材應具有一定的強度和表面平滑度；挺度和摩擦系數(shù)適當。

（2） 耐熱性好，基材經(jīng)得起蒸發(fā)源的熱輻射和蒸發(fā)物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。

（3）薄膜基材產(chǎn)生的揮發(fā)性物質要少；表面潤濕張力大于38dyn/cm。

（4）對鍍鋁層的粘接性良好；對于非極性材料，真空鍍鋁前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。

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