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怎么測量鍍鋁膜的厚度、牢度、均勻度
1、通常采用下述三種方法來測量鍍鋁膜的厚度：
A.光密度法:即以光線透過鍍鋁膜的密度來測量。用光密度法測量鍍鋁膜的厚度方便、準(zhǔn)確。
B.采用表面方塊電阻測量法，這種方法比較簡單實用。通常來說，鋁層厚度對應(yīng)的表面電阻一般在1~2之間。
C.目測估算法：即把兩層鍍鋁膜疊在一起對著日光燈或天空看，以看不見的光線為準(zhǔn)，鍍層厚度應(yīng)達(dá)400?以上。
2、鍍鋁牢度
一般是用膠帶來檢測鍍鋁牢度的。
具體方法為：把長約15cm的膠粘帶貼在鍍鋁面上并用手指壓平，然后用一只手壓住樣品，另一只手勻速剝離膠粘帶，再用帶強(qiáng)光的燈箱檢驗鋁層脫落轉(zhuǎn)移的情況便可。
或者把一種特別制備的試驗?zāi)づcPET鍍鋁膜按一定的熱封條件熱封，裁樣后再用拉伸試驗機(jī)剝離，測定剝離力并檢查熱封面積中的鋁層轉(zhuǎn)移情況。
3、鍍鋁膜鍍層的均勻度
電阻層電阻的偏差，實際就是反映了鍍鋁層的均勻度。沿被測樣品橫向等距離地取8~10個規(guī)格為100mm×100mm的試樣，用電阻測量儀分別測出方塊的電阻值，取其算數(shù)平均值，pet金膜廠家直銷，即為該試樣的鍍層電阻，再計算其電阻值的上、下偏差，pet金膜加工批發(fā)，便可知道鍍鋁膜鍍鋁層的均勻度。
真空鍍膜中常用的方法有真空蒸發(fā)和離子濺射。真空蒸發(fā)鍍膜是在真空度不低于10-2Pa的環(huán)境中，用電阻加熱或電子束和激光轟擊等方法把要蒸發(fā)的材料加熱到一定溫度，使材料中分子或原子的熱振動能量超過表面的束縛能，從而使大量分子或原子蒸發(fā)或升華，pet金膜，并直接沉淀在基片上形成薄膜。離子濺射鍍膜是利用氣體放電產(chǎn)生的正離子在電場的作用下的高速運動轟擊作為陰極的靶，使靶材中的原子或分子逸出來而沉淀到被鍍工件的表面，形成所需要的薄膜。
真空蒸發(fā)鍍膜常用的是電阻加熱法，其優(yōu)點是加熱源的結(jié)構(gòu)簡單，造價低廉，操作方便；缺點是不適用于難熔金屬和耐高溫的介質(zhì)材料。電子束加熱和激光加熱則能克服電阻加熱的缺點。電子束加熱上利用聚焦電子束直接對被轟擊材料加熱，電子束的動能變成熱能，使材料蒸發(fā)。激光加熱是利用大功率的激光作為加熱源，但由于大功率激光器的造價很高，目前只能在少數(shù)研究性實驗室中使用。
濺射技術(shù)與真空蒸發(fā)技術(shù)有所不同?！盀R射”是指荷能粒子轟擊固體表面（靶），使固體原子或分子從表面射出的現(xiàn)象。射出的粒子大多呈原子狀態(tài)，常稱為濺射原子。用于轟擊靶的濺射粒子可以是電子，離子或中性粒子，因為離子在電場下易于加速獲得所需要動能，因此大都采用離子作為轟擊粒子。濺射過程建立在輝光放電的基礎(chǔ)上，即濺射離子都來源于氣體放電。不同的濺射技術(shù)所采用的輝光放電方式有所不同。直流二極濺射利用的是直流輝光放電；三極濺射是利用熱陰極支持的輝光放電；射頻濺射是利用射頻輝光放電；磁控濺射是利用環(huán)狀磁場控制下的輝光放電。濺射鍍膜與真空蒸發(fā)鍍膜相比，有許多優(yōu)點。如任何物質(zhì)均可以濺射，尤其是高熔點，低蒸氣壓的元素和化合物；濺射膜與基板之間的附著性好；薄膜密度高；膜厚可控制和重復(fù)性好等。缺點是設(shè)備比較復(fù)雜，需要高壓裝置。此外，將蒸發(fā)法與濺射法相結(jié)合，pet金膜印刷，即為離子鍍。這種方法的優(yōu)點是得到的膜與基板間有極強(qiáng)的附著力，有較高的沉積速率，膜的密度高。
產(chǎn)品名稱：pet金膜
產(chǎn)品特點:優(yōu)良的耐熱、耐寒性和良好的耐化學(xué)藥品性和耐油性
產(chǎn)品用途:產(chǎn)品應(yīng)用外包裝、文具、禮品袋、煙酒、化妝品、燈飾、建材、窗貼、不干膠、鞋材，膠印，凹印，絲印，柯式印刷，特種印刷等
目前在家居 浴簾，臺布，手袋，包袋，包裝、文具、禮品、化妝品、燈飾、建材、廣告裝璜、不干膠、鞋業(yè)、運動器。
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